你的位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品展示 > 光學(xué)成像 > 測(cè)試標(biāo)板 >高分辨率顯微鏡載玻片靶
產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)
高分辨率顯微鏡載玻片靶
- 產(chǎn)品型號(hào)：
- 更新時(shí)間：2023-12-19
- 產(chǎn)品介紹：高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術(shù)設(shè)計(jì)。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛 （DUV-VIS-NIR） 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上，在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過(guò)去除鉻層，形成尺寸低 100nm 的圖案。本產(chǎn)品提供優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性，并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個(gè)靶上的負(fù)片圖案允許結(jié)構(gòu)透明，而背景被鉻層阻擋。
- 廠商性質(zhì)：代理商
- 在線留言
產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 1萬(wàn)-5萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子 |
高分辨率顯微鏡載玻片靶
Ø小圖案尺寸 - 100nm 和 3300 lp/mm
Ø采用高精度電子束光刻技術(shù)制作
Ø負(fù)片圖案設(shè)計(jì)
高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術(shù)設(shè)計(jì)。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上，在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過(guò)去除鉻層，形成尺寸低 100nm 的圖案。高分辨率顯微鏡載玻片靶提供優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性，并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個(gè)靶上的負(fù)片圖案允許結(jié)構(gòu)透明，而背景被鉻層阻擋。
高分辨率顯微鏡載玻片靶
高分辨率顯微鏡美國(guó)空軍USAF測(cè)試目標(biāo)板可輕松確定透射光中物鏡的分辨率極限，并由 59 個(gè)圖案組成，水平和垂直排列的線圖案為 7.5 3300 lp/mm。該測(cè)試目標(biāo)板還具有 5 個(gè)直徑在 4.0-0.25μm 之間的針孔，可用于微成像光學(xué)元件的詳細(xì)表征。
高分辨率顯微鏡星測(cè)試目標(biāo)板
高分辨率顯微鏡星測(cè)試目標(biāo)板由 5 顆西門(mén)子星組成，其特點(diǎn)是星中心的錐形部分制造的小寬度為 150nm。該測(cè)試目標(biāo)板非常適合于確定具有非常高數(shù)值光圈的顯微鏡物鏡的分辨率。
高分辨率顯微鏡檢查板
高分辨率顯微鏡檢查板的特點(diǎn)是 50 x 50 平方微米的正方形總尺寸為 9.0 x 9.0 平方毫米。檢查板非常適合于測(cè)試圖像歪斜和曲率，以及確定由于直線和銳邊導(dǎo)致的圖像質(zhì)量。
高分辨率顯微鏡載玻片靶通用規(guī)格
Pattern Tolerance: | 100nm/cm = 10-5 |
光密度 OD: | OD>8 @ 400nm, 6 @ 550nm, 4.5 @ 750nm, 3.6 @ 1000nm |
光譜范圍: | 200 - 2000nm |
基底: | Fused Silica w/Chrome deposit |
尺寸 (mm): | 10 x 10 x 1 |
構(gòu)造 : | Stainless Steel, 75 x 25 x 1.5mm, microscope slide format |
訂購(gòu)信息：
標(biāo)題 | 產(chǎn)品號(hào) |
High Res Microscopy Star Target | #37-538 |
High Res Microscopy USAF Target | #37-539 |
High Res Microscopy Checker board | #37-540 |
- 上一篇：H2S硫化氫智能洗滌器
- 下一篇：多功能高倍率校準(zhǔn)卡
