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質(zhì)檢——精密光學測量儀器
- 產(chǎn)品型號：
- 更新時間：2023-12-21
- 產(chǎn)品介紹：質(zhì)檢——精密光學測量儀器LAYERTEC的精密光學設備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20（633nm）的平面基板和形狀度為λ/ 10（633nm）的球形基板提供干涉測量規(guī)程。
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
質(zhì)檢——精密光學測量儀器
LAYERTEC致力于確保當前和未來產(chǎn)品的質(zhì)量。
我們*的測量設備可用于監(jiān)督基材和涂層的生產(chǎn)。
例如我們定期測量
Ø表面形態(tài)
Ø表面粗糙度/精加工質(zhì)量
Ø光譜透射率和反射率
Ø頻譜相位和GDD（如果適用）
Ø使用以OPO為光源的寬帶腔衰蕩設置在寬波長范圍內(nèi)進行高級反射率測量
Ø某些波長和脈沖長度的損傷閾值測量
質(zhì)檢——精密光學測量儀器
LAYERTEC的精密光學設備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20（633nm）的平面基板和形狀度為λ/ 10（633nm）的球形基板提供干涉測量規(guī)程。
LAYERTEC還使用高性能的Fizeau干涉儀和Twyman-Green干涉儀在以下測量范圍內(nèi)對大型光學器件的形狀公差進行測量：
平面：
Ø最大∅= 300mm
Ø測量精度：平坦度λ/ 100（546nm）
球面：
Ø最大∅= 500mm
Ø測量精度：形狀公差為λ/ 50（546nm）
原子力顯微鏡（AFM）是有用的儀器，用于表征均方根粗糙度低于5Å的非常光滑的表面。LAYERTEC具有AFM，可控制特殊的拋光過程并根據(jù)要求提供檢查方案。
涂層測量工具
LAYERTEC的檢查程序包括在120nm至20µm的波長范圍內(nèi)對鍍膜光學元件進行分光光度測量。使用PERKIN ELMER分光光度計Lambda950®，Lambda750®和Lambda19®在190nm – 3200nm波長范圍內(nèi)進行標準分光光度測量。對于超出此波長范圍的測量，LAYERTEC配備了FTIR光譜儀（對于λ=1μm...20μm）和VUV光譜儀（對于λ= 120nm ... 240nm）。
通過腔衰蕩時間光譜法測量高反射率，R = 99.9 ... 99.9995％。實際上，LAYERTEC配備了各種CRDS測量系統(tǒng)，可以在355nm至1064nm的波長范圍內(nèi)使用。此外，還提供了一種新穎的寬帶CRDS設置，該設置可以測量220nm至2300nm之間的低損耗反射鏡的反射率。
LAYERTEC配備了LIDT測量設置，工作于266nm，355nm，532nm和1064nm且具有ns脈沖。
還可以與耶拿光子技術(shù)研究所，弗勞恩霍夫研究所耶拿Jena和漢諾威激光Zentrum合作，對光學薄膜和塊狀材料的吸收和散射損耗進行測量，并對激光損傷閾值進行測量。
菲索干涉儀（SOLITON MiniFIZ 300）
干涉儀（OptoTech®）
原子力顯微鏡（DINanoscope®）
分光光度計
腔振鈴設置
GDD測量設置
低損耗光學元件的反射率和透射率的測定
低損耗光學組件的反射率值R> 99％和透射率值T> 99％可以通過腔衰蕩時間測量非常準確地測量。與在光譜儀中進行測量相比，該方法具有三個主要優(yōu)點：
Ø適用于非常高的反射率和透射率
Ø無法獲得比實際值高的測量值
Ø精度很高
基本CRD測量設置
Layertec帶有各種腔衰蕩系統(tǒng)，通過這些系統(tǒng)可以穩(wěn)定地控制光學組件的質(zhì)量。有關更多詳細信息，請參見我們的目錄內(nèi)容“低損耗光學器件和腔衰蕩時間測量簡介”。
您可以在此處下載我們的目錄。
相位優(yōu)化的fs-Laser寬帶鏡-CRD測量示例
低損耗鏡-CRD測量示例
轉(zhuǎn)向鏡-寬帶CRD測量示例
薄膜偏振片-CRD測量示例
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